본 대학 후지와라 히데키 교수, 국립 핵융합 과학 연구소 우에하라 히요리 부교수, COE 연구원 Shi Quan(현 도쿄 대학 박사후 연구원), 도쿄 대학 가지타 마코토 교수, 도쿄 대학 오노 테츠야스 교수의 플라즈마-물질 상호 작용에 대한 최신 연구 결과 나고야대학은 미국화학회가 발행하는 학술지 '랭뮤어(Langmuir)'에 게재됐다

제목: 공증착 에칭 기술을 이용한 다양한 반도체의 리소그래피 없는 나노 가공(플라즈마 조사에 의한 증착 에칭을 이용한 새로운 반도체 나노 가공 방법 제안)
작성자: 콴시, 카지타 신, 오노 노리야스, 다나카 히로히코, 야스하라 료, 후지와라 히데키, 우에하라 히요리
출판 정보: Langmuir 40, 12437–12442(2024)
논문 출판 페이지:https://pubsacsorg/doi/101021/acslangmuir4c00686?ref=PDF
NIFS 기사:https://unitnifsacjp/research/archives/report/report-7738?unit=unit06

지난해 같은 팀은 와이드갭 반도체인 질화갈륨 표면처리에 반도체 소재에 플라즈마를 한 번만 조사하면 넓은 범위에 걸쳐 나노미터 크기의 요철 구조를 제작하는 기술을 적용해 랜덤레이저(Random Laser)라는 고성능 발광소자를 개발했다(보도자료 참조: https://wwwnifsacjp/news/collabo/230110html) 본 연구에서는 이 방법을 이용하여 플라즈마 조사의 범위를 다양한 화합물 반도체로 확장하여 실험을 진행하였고, 다양한 반도체 소재의 표면에 특수한 요철 구조를 형성하는데 성공하였습니다 플라즈마 조사 조건을 최적화함으로써 원뿔형, 원반형 구조는 물론 침형, 기둥형, 입자형, 잔물결형 구조 등 다양한 나노구조를 다양한 반도체 소재에서 높은 재현성으로 제작할 수 있음을 새롭게 입증했습니다